简论高能聚焦质子束无掩模刻写实验和策略

摘要5-6

Abstract6-10

第1章 引言10-13

1.1 质子束刻写10-11

1.1.1 PBW介绍10

1.1.2 质子束和物质的相互作用特性10-11

1.2 PBW运用前景11-12

1.3 PBW探讨近况及进展走势12-13

第2章 实验材料及模拟计算13-33

2.1 SRIM程序介绍13

2.2 抗蚀剂材料及模拟计算13-24

2.2.1 PMMA14-17

2.2.2 SU-817-19

2.2.3 HSQ19-22

2.2.4 PDMS22-24

2.3 衬底材料24-31

2.3.1 硅衬底25-27

2.3.2 其它衬底材料27-31

2.4 实验选用材料31-33

2.4.1 AR-P6510.12正型光刻胶32

2.4.2 AR-N4400.10负型光刻胶32-33

第3章 PBW实验仪器平台33-47

3.1 抗蚀剂制样平台33-35

3.1.1 真空旋转涂层匀胶机33-34

3.1.2 热板34-35

3.2 刻写平台35-40

3.2.1 SPM系统35-38

3.2.2 PBW装置38-40

3.2.3 扫描制约软件40

3.3 样品观测平台40-43

3.3.1 光学显微镜40-41

3.3.2 扫描电子显微镜41-43

3.4 电镀平台43-47

3.4.1 装置及镀液43-45

3.4.2 电镀测试45-47

第4章 PBW实验流程47-57

4.1 胶层制备流程47-48

4.1.1 硅片衬底清洗47

4.1.2 胶体旋转涂覆47

4.1.3 烘烤47-48

4.2 环境光影响测试48-49

4.3 胶层厚度测试49-53

4.3.1 AR-P6510.12厚度测试49-51

4.3.2 AR-N4400-10厚度测试51-53

4.4 胶层及显影53-57

4.4.1 抗蚀剂辐照53

4.4.2 抗蚀剂显影53-57

第5章 微结构刻写57-65

5.1 剂量制约测试57-59

5.2 正型抗蚀剂微结构59-61

5.2.1 “海宝”轮廓59

5.2.2 双矩形微结构59-60

5.2.3 微型圆孔60-61

5.3 负型抗蚀剂微结构61-64

5.4 图形转换64-65

第6章 总结与展望65-66

致谢66-67