本站原创摘要4-6
ABSTRACT6-11
第一章 绪论11-19
1.1 课题探讨背景11-12
1.2 PDP进展历史12-13
1.3 等离子显示探讨近况13-18
1.3.1 优化气体成分探讨近况14
1.3.2 优化电极设计及改善单元结构探讨近况14
1.3.3 新型放电材料的探讨近况14-18
1.3.3.1 MgO薄膜探讨近况14-16
1.3.3.2 掺杂氧化镁薄膜的探讨近况16-18
1.4 本课题主要探讨作用及主要内容18-19
第二章 AC-PDP工作原理及溶胶-凝胶相关知识19-30
2.1 PDP分类19
2.2 三电极表面放电型结构AC-PDP工作原理19-22
2.3 气体放电论述22-26
2.3.1 汤生放电论述23-24
2.3.2 帕邢定律24-25
2.3.3 气体放电相似定律25-26
2.4 PDP放电特性和发光机理26-27
2.5 溶胶-凝胶法的原理和特点27-29
2.5.1 溶胶-凝胶法制制备薄膜工艺优点28
2.5.2 浸渍提拉法28-29
2.5.3 旋转涂覆法29
2.6 本章小结29-30
第三章 溶胶-凝胶法制备掺杂薄膜及性能表征30-56
3.1 实验主要仪器设备及原材料选择30-33
3.1.1实验主要仪器设备30-31
3.1.2 实验原材料的选择31-32
3.1.3 衬底表面的预处理32-33
3.1.3.1 硅片清洗32-33
3.1.3.2 ITO玻璃衬底清洗33
3.2 主要实验步骤33-36
3.2.1 溶胶制备33-35
3.2.2 旋转涂覆法制备薄膜35
3.2.3 薄膜的干燥处理35-36
3.3 主要测试手段36-38
3.3.1 薄膜厚度的测量策略36-37
3.3.2 X射线衍射(XRD)浅析薄膜物相结构37
3.3.3 EDS电子能谱浅析仪浅析薄膜成分37-38
3.3.4 其他测试策略38
3.4 溶胶-凝胶法制备掺杂薄膜测试结果38-54
3.4.1 探讨制备纯氧化镁薄膜最佳工艺参数38-41
3.4.1.1 火棉胶含量对薄膜成膜质量的影响38-39
3.4.1.2 热处理历程升温速率对薄膜成膜质量的影响39-41
3.4.2 薄膜物相结构浅析41-47
3.4.2.1 退火温度对物相结构的影响41-44
3.4.2.2 涂覆次数对物相结构的影响44-45
3.4.2.3 掺杂比例对物相结构的影响45-47
3.4.3 掺杂薄膜的成分浅析47
3.4.4 掺杂薄膜的厚度测试47-49
3.4.5 掺杂薄膜的透过率测试浅析49-52
3.4.5.1 退火条件对薄膜的通光性能的影响50
3.4.5.2 镀膜层数对薄膜的通光性能的影响50-51
3.4.5.3 掺杂比例的转变对薄膜透过率的影响51-52
3.4.6 Zn~(2+)掺杂MgO薄膜导电性能的探讨52-54
3.5 本章小结54-56
第四章 模拟放电单元放电特性测试及结果浅析56-66
4.1 PDP模拟单元封接工艺探讨56-60
4.1.1 模拟单元封接工艺探讨56-58
4.1.2 PDP模拟放电单元设计与制备58-59
4.1.3 充放气系统模块设计59
4.1.4 模拟放电单元电路模块设计59-60
4.2 PDP模拟放电单元放电特性相关探讨60-64
4.2.1 气体压强与着火电压联系60-62
4.2.2 模拟真实PDP工作放电特性浅析62-63
4.2.3 模拟放电单元工作稳定性浅析63-64
4.3 本章小结64-66
第五章 结论与展望66-69
5.1 结论66-67
5.2 下一步工作方向67-69
致谢69-70